用途：专为微电子行业量身定做，适用于硅、砷化镓、磷化铟等基片6″8″盘的生产工艺检查；可以方便的快移和精确的位移
检查；也可以适用其它需较大面积标本的工艺检查。
性能特点：
1、 配置大视野目镜和长距平场消色差物镜(无盖玻片)，视场大而清晰。
2、配置大移动范围的载物台，能快速和慢速移动。
3、粗微动同轴调焦机构，粗动松紧可调，带锁紧和限位装置，微动格值:2μm。
4、6V 20W卤素灯,亮度可调。
5、三目镜筒,可自由切换正常观察与偏光观察，可进行100%透光摄影。
主要技术参数：
1、三目镜筒：倾斜30 °，瞳距55mm-75mm，视度±5°
2、目镜：WF10X/18mm
3、长距平场消色差物镜(无盖玻片）PL 5X/0.12 、PL L10X/0.25 、PL L20X/0.40 、PL L40X/0.60 、PL L80X/0.8
4、总放大倍数：50X-800X
5、载物台：尺寸: 280mm×270mm,移动范围: 204mm×204mm
6、调焦：粗微动同轴 升降范围25mm 微动格值0.002mm
7、光 源：柯勒照明 滤色片座 可调卤素灯6V20W
8、正交偏光装置
选配件：
1、目镜：WF16X/11mm，WF20X/9mm，10X带尺可调目镜
2、长距平场消色差物镜(无盖玻片)PL L 50X/0.70、 PL L 60X/0.75 (弹簧)、 PL L 100X/0.85 (弹簧) ，
平场消色差物镜(无盖玻片)： PL 100X/1.25 (弹簧,油)
3、摄像系统：数码摄像头500万或1000万像素；610万工业摄像头
4、测量软件，金相分析软件等
