性能和特点:
适用于介质,半导体,薄膜滤波器和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。该薄膜测厚仪,是我公司与美国new-span公司合作研制的,采用new-span公司先进的薄膜测厚技术,基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数(折射率n,消光系数k)。它通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱,用相应的软件来拟合运算,得到单层或多层膜系各层的厚度d,折射率n,消光系数k。该设备关键部件均为国外进口,也可根据客户需要整机进口。
1 非接触式测量,用光纤探头来接收反射光,不会破坏和污染薄膜
2 测量速度快,测量时间为秒的量级;
3 可用来测薄膜厚度,也可用来测量薄膜的折射率n和消光吸收k;
4 可测单层薄膜,还可测多层膜系;
5 可广泛应用于各种介质,半导体,液晶等透明半透明薄膜材料;
6 软件的材料库中整合了大量材料的折射率和消光系数,可供用户参考;
7 内嵌微型光纤光谱仪,结构紧凑, 光纤光谱仪也可单独使用。
仪器成套性
强大的软件功能
界面友好,操作简便;
可保存测量得到的反射谱;
可读取保存的反射率数据;
可选择是否测量折射率n,消光系数k;
可选择光谱范围;
可猜测薄膜厚度以节省测量时间;
可从大量的材料库中选择薄膜和基底的材料;
用户可自己扩充材料库。
技术参数:
厚度范围: 20nm-50um(只测膜厚),100nm-25um(同时测量膜厚和光学常数n,k)
准确度: <1nm或<0.5%
重复性: 0.1nm
波长范围: 380nm-1000nm
可测层数: 1-4层
样品尺寸: 样品镀膜区直径>1.2mm
测量速度: 5s-60s
光斑直径: 1.2mm-10mm可调
