该设备利用频率为2.45GHz的微波激励稀薄气体放电，从而产生等离子体。真空反应室为Φ50mm的石英管腔体。放置样品的基片台可以方便地在反应腔体内上下升降调节。
基片台位于石英管反应腔体的中心，该基片台除了基本的上下升降功能外，同时具有水冷控温的功能，双层水冷支架与基片台可方便地拆卸与维护，即使样品以不同的形态（片状、块状、粉末状等）出现，更换或改装基片台也**方便。
石英管反应腔两端有双层水冷套作降温保护，端口以不锈钢部件固定并密封（加橡胶）石英腔体，以确保反应腔的**稳定工作。
该设备的真空系统采用2XZ-2型旋片真空泵，极限真空6×10－1帕，抽速2升/秒，额定转速1400转/分，机械泵与真空室之间设置有电磁阀和高真空隔膜阀，旁路管道设置另一隔断阀（高真空微调阀），以便于真空系统运行**及工作时反应气体压强的灵活控制。真空密封采用金属和橡胶密封，通常：相对不动接口采用金属铜密封，相对可动接口采用橡胶密封。
真空测量采用数字压阻式真空计，用来测量反应腔内的工作气压。
主要电气配置：
1) 真空泵：2XZ-2型旋片真空泵采用单相220V交流电源，对实验室电源无特殊要求。
2) 磁控管：采用工业上通用的磁控管，该磁控管具有使用寿命长、可靠性高的特点，维护方便。
3) 真空计：采用压阻式真空计，用于测量工作时的工作气压。
4) 温控仪：用于冷却水循环系统中的制冷及水温控制。
5) 500W微波功率源：通过调节磁控管阳极电压的方法调节微波功率的输出，利用简单、可靠、易维护的电路实现微波功率的连续可调输出。
6) 冷却水：装置自带循环冷却水，对实验室无水源要求，既节水又方便。
二、技术参数及特性1. 反应室工作压强：几百帕～十千帕
2. 反应室极限压强: 6×10－1帕3. 反应室尺寸： Φ50mm
4. 微波功率： 0～500W5. 基片温控： 200～1000℃
外形尺寸 1.4*1.5*0.6立方米（mm）
测量范围 0.500W（Ω）
